2022年口腔主治醫(yī)師基礎(chǔ)知識(shí)考點(diǎn)—牙釉質(zhì)的組織學(xué)特點(diǎn)
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(一)釉柱 釉柱是細(xì)長(zhǎng)的柱狀結(jié)構(gòu),起自釉質(zhì)牙本質(zhì)界,貫穿釉質(zhì)全層而達(dá)牙表面?!「C溝處: 向窩溝底部集中、牙頸部:水平。直徑4-6μm。
√絞釉:釉柱的直徑在表面者較深部的稍大釉柱近表面1/3較直,而內(nèi)2/3彎曲,在牙切緣及牙尖處絞繞彎曲更為明顯,稱為絞釉。
√釉柱鞘:在一個(gè)釉柱尾部與相鄰釉柱頭部的兩組晶體相交處呈現(xiàn)參差不齊的間隙,稱為釉柱間隙,構(gòu)成了釉柱頭部清晰、孤形的邊界,即所謂的釉柱鞘。
(二)施雷格線
形態(tài):落射光觀察牙縱磨片,見寬度不等的明暗相間帶,在釉質(zhì)厚度的內(nèi)4/5區(qū),改變?nèi)肷涔饨嵌?,明暗帶發(fā)生變化。
成因:規(guī)則性的釉柱排列方向改變而產(chǎn)生的折光現(xiàn)象。(亮區(qū)為釉柱縱斷區(qū),暗區(qū)為橫斷區(qū)。)
(三)無(wú)釉柱釉質(zhì) 近釉質(zhì)牙本質(zhì)界最先形成的釉質(zhì)、多數(shù)乳牙和恒牙表層約30μm厚的釉質(zhì)均看不到釉柱結(jié)構(gòu),晶體相互平行排列,稱為無(wú)釉柱釉質(zhì)。
成因:內(nèi)層—Tomes突尚未形成
外層—成釉細(xì)胞分泌停止、Tomes突退縮。
(四)釉質(zhì)生長(zhǎng)線又稱 芮氏線
1.形態(tài):
縱磨片—牙尖部環(huán)行包繞牙尖, 近牙頸處呈斜行線。
橫磨片—深褐色同心環(huán)狀.
成因:釉質(zhì)周期性的生長(zhǎng)速率改變。5-10天釉質(zhì)沉積的厚度。
2.乳牙和第一恒磨牙的磨片上,常見一條加重的生長(zhǎng)線。乳牙、第一恒磨牙,加重了的生長(zhǎng)線。嬰兒出生前后,該處釉質(zhì)發(fā)育受到干擾。
(五)釉板
形態(tài):垂直于牙面的薄層片狀結(jié)構(gòu),可貫穿整個(gè)釉質(zhì)的厚度。
成因:釉柱成熟不全。是齲齒侵入途徑,但大多無(wú)害。
(六)釉叢
形態(tài):起自釉牙本質(zhì)界,向牙表面方向散開,呈草叢狀。其高度為釉質(zhì)厚度的1/5~1/4。
成因:有機(jī)物含量高,是釉質(zhì)中薄弱區(qū)。
(七)釉梭
成牙本質(zhì)細(xì)胞突起穿過基底膜,末端膨大的突起留在釉質(zhì)內(nèi)。
(八)釉質(zhì)牙本質(zhì)界
釉質(zhì)和牙本質(zhì)的交界不是一條直線,而是由許多小弧形線相連而成。
小凹突向牙本質(zhì),而凹面與成釉細(xì)胞托姆斯突的形態(tài)相吻合。
生長(zhǎng)、排列 | 特點(diǎn) | 實(shí)質(zhì) |
釉面橫紋 | 呈節(jié)律性4 μm生長(zhǎng) | 節(jié)律性沉積 |
釉質(zhì)生長(zhǎng)線 | 縱—牙尖部環(huán)行包繞牙尖 橫—深褐色同心環(huán)狀 | 實(shí)質(zhì)上是牙釉質(zhì)發(fā)育的間歇線 |
絞釉 | 外1/3較直,內(nèi)2/3彎曲 | 對(duì)抗剪切力 |
施雷格線 | 寬度不等的明暗相間帶,分布在釉質(zhì)厚度的內(nèi)4/5 | 釉柱排列方向的改變而產(chǎn)生 |
考生關(guān)注?2022年口腔主治醫(yī)師考試報(bào)名時(shí)間:
口腔主治醫(yī)師考試報(bào)名分為網(wǎng)上報(bào)名和現(xiàn)場(chǎng)確認(rèn)。一般在前一年12月份~考試當(dāng)年1月份。參考2021年口腔主治醫(yī)師考試報(bào)名時(shí)間:
(1)2021年口腔主治醫(yī)師考試網(wǎng)上報(bào)名時(shí)間為2020年12月29日-2021年1月11日。
(2)2021年口腔主治醫(yī)師考試現(xiàn)場(chǎng)確認(rèn)時(shí)間為2020年12月30日-2021年1月12日,各地區(qū)可根據(jù)具體情況自行安排。
及時(shí)更新:2022年口腔主治醫(yī)師考試報(bào)名時(shí)間>
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