頜面部缺損如何修復(fù)：

1.概念和原理

是口腔修復(fù)學(xué)的一個(gè)重要組成部分，是研究應(yīng)用口腔修復(fù)學(xué)的原理和方法，以人工材料修復(fù)患者難以用自體組織和外科手術(shù)方法修復(fù)頜面部缺損的一門科學(xué)技術(shù)。

2.頜面部組織特點(diǎn)極其缺損原因和分類

（一）先天性因素：唇裂，腭裂最為常見，尚有先天性耳缺損，鼻缺損以及面裂等

（二）后天性因素

1.外傷：工傷，燒傷，爆炸傷，交通事故，火器傷所致缺損

2.疾病：頜骨腫瘤手術(shù)最為多見，其次為炎癥（走馬疳，頜骨骨髓炎）

頜骨缺損修復(fù)治療原則

（一）早期，系列治療

（二）盡可能恢復(fù)生理功能（咀嚼，語言，吞咽，吮吸）上頜骨首先封閉口鼻腔，下頜首先恢復(fù)下頜骨連續(xù)性，以恢復(fù)正常頜關(guān)系。

（三）保護(hù)余留組織

（四）要有良好的固位

（五）修復(fù)體堅(jiān)固輕巧，使用方便，感覺舒適

3.頜面部缺損修復(fù)不同狀況的模型制備

頜骨缺損修復(fù)-的印模技術(shù)

（一）個(gè)別托盤印模法：

個(gè)別托盤－>印模

（二）二次印模法（口裂太小患者）：

半側(cè)托盤－>半側(cè)模型－>半側(cè)卡環(huán)＋恒基托－>戴入恒基托－>另半側(cè)托盤－>半側(cè)卡環(huán)＋恒基托＋另半側(cè)模型－>完整恒基托－>完整修復(fù)體

（三）分段印模法（口裂太小患者）：

半側(cè)托盤－>半側(cè)印模（不取出）－>另側(cè)托盤（蓋過已取印模）－>分別取出兩側(cè)托盤－>拼接灌注模型

（四）分層印模法（缺損較深或深達(dá)眶底）：考試大網(wǎng)站整理

1.印模膏－>初印模－>初模型－>個(gè)別托盤（自凝塑料）

2.小個(gè)別托盤＋印模材－>缺損深區(qū)印模（保持不動(dòng)）－>1步大個(gè)別托盤＋印模材－>整個(gè)模型－>分層取出拼接灌

（五）裂縫托盤印模法（張口受限或口裂縮小者）：放入困難取出容易者。

（六）注射印模法（張口度小，印模材對(duì)方過多無法進(jìn)入口腔者，需要取得鼻底倒凹者）：注射器＋水膠體印模材

3.特殊修復(fù)（耳鼻）