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10月30日 19:00-21:00
詳情出分當(dāng)晚 19:00-21:00
詳情頜面部缺損的修復(fù)是口腔助理醫(yī)師修復(fù)學(xué)考試所需要了解的內(nèi)容,醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)整理了相關(guān)內(nèi)容,供考生參閱。
1.概念和原理
頜面部缺損的修復(fù)是口腔修復(fù)學(xué)的一個(gè)重要組成部分,是研究應(yīng)用口腔修復(fù)學(xué)的原理和方法,以人工材料修復(fù)患者難以用自體組織和外科手術(shù)方法修復(fù)頜面部缺損的一門科學(xué)技術(shù)。
2.頜面部組織特點(diǎn)極其缺損原因和分類
(一)先天性因素
唇裂,腭裂最為常見,尚有先天性耳缺損,鼻缺損以及面裂等
(二)后天性因素
1.外傷:工傷,燒傷,爆炸傷,交通事故,火器傷所致缺損
2.疾?。侯M骨腫瘤手術(shù)最為多見,其次為炎癥(走馬疳,頜骨骨髓炎)
頜骨缺損修復(fù)治療原則
(一)早期,系列治療
(二)盡可能恢復(fù)生理功能(咀嚼,語言,吞咽,吮吸)上頜骨首先封閉口鼻腔,下頜首先恢復(fù)下頜骨連續(xù)性,以恢復(fù)正常頜關(guān)系。
(三)保護(hù)余留組織
(四)要有良好的固位
(五)修復(fù)體堅(jiān)固輕巧,使用方便,感覺舒適
3.頜面部缺損修復(fù)不同狀況的模型制備
頜骨缺損修復(fù)-的印模技術(shù)
(一)個(gè)別托盤印模法:
個(gè)別托盤->印模
(二)二次印模法(口裂太小患者):
半側(cè)托盤->半側(cè)模型->半側(cè)卡環(huán)+恒基托->戴入恒基托->另半側(cè)托盤->半側(cè)卡環(huán)+恒基托+另半側(cè)模型->完整恒基托->完整修復(fù)體
(三)分段印模法(口裂太小患者):
半側(cè)托盤->半側(cè)印模(不取出)->另側(cè)托盤(蓋過已取印模)->分別取出兩側(cè)托盤->拼接灌注模型
(四)分層印模法(缺損較深或深達(dá)眶底):
1.印模膏->初印模->初模型->個(gè)別托盤(自凝塑料)
2.小個(gè)別托盤+印模材->缺損深區(qū)印模(保持不動(dòng))->1步大個(gè)別托盤+印模材->整個(gè)模型->分層取出拼接灌
(五)裂縫托盤印模法(張口受限或口裂縮小者):放入困難取出容易者。
(六)注射印模法(張口度小,印模材對(duì)方過多無法進(jìn)入口腔者,需要取得鼻底倒凹者):注射器+水膠體印模材
3.特殊修復(fù)(耳鼻)
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