牙釉質的形成：

牙本質基質作用于內釉上皮分化成功能性成釉細胞，內含粗面內質網、線粒體及分泌顆粒，開始在罩牙本質表面形成一層無釉柱釉基質。成釉細胞離開基底膜并在基底膜一端形成托姆斯突。

釉質基質在粗面內質網中合成，在高爾基氏體中濃縮，然后從細胞頂端和突起中分泌出來，新分泌的釉基質主要是有機成分，含礦物為30%.

釉基質礦化

當釉基質形成到應有厚度時，即開始礦化。

釉質礦化是從釉質表面向深層擴散一直到最內層。再由內層向表層礦化，醫(yī)|學教育網搜集整理外層釉質礦化程度最高。

成釉器的變化

釉質形成后，成釉細胞在釉質表面分泌一層無結構的有機薄膜覆蓋在牙冠表面，稱為釉小皮

釉質發(fā)育完成后，成釉器幾層細胞縮合一層鱗狀上皮覆蓋在釉小皮上，稱之為縮余釉上皮（reduceddentalepithelium）。