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09年公衛(wèi)執(zhí)業(yè)助理醫(yī)師《答疑周刊》第17期

  【生物化學(xué)】嘌呤核苷酸從頭合成時(shí)首先生成的是

  A.GMP

  B.AMP

  C.IMP

  D.ATP

  E.GTP

  學(xué)員提問(wèn):老師,請(qǐng)問(wèn)其全過(guò)程?

  答案與解析:本題的正確答案是C。

  嘌呤核苷酸從頭合成從5’-磷酸核糖開(kāi)始,首先生成IMP。IMP合成途徑可分為二段11步反應(yīng),第一階段生成5’-磷酸核糖-1’-焦磷酸(PRPP)。第二階段生成IMP。IMP的生成過(guò)程:PRPP在谷氨酰胺PRPP酰胺基轉(zhuǎn)移酶作用下生成5’-磷酸核糖胺,在甘氨酰胺核苷酸合成酶作用下生成甘氨酰胺核苷酸,在轉(zhuǎn)甲酰基酶作用下生成甲酰甘氨酰胺核苷酸,在甲酰甘氨咪核苷酸合成酶作用下,生成甲酰甘氨咪核苷酸,在5-氨基咪唑核苷酸合成酶作用下,生成5-氨基咪唑核苷酸,在5-氨基咪唑核苷酸羧化酶作用下,生成5-氨基咪唑-4-羧酸核苷酸,在N-琥珀酰-5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸合成酶作用下,生成N-琥珀酰-5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸,在腺苷酸代琥珀酸裂解酶作用下生成5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸,在5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸轉(zhuǎn)甲酰基酶作用下,生成5-甲酰胺基咪唑-4-甲酰胺核苷酸,在IMP合酶作用下,生成次黃嘌呤核苷酸(IMP)。

  【藥理學(xué)】能降低糖耐量:

  A.螺內(nèi)酯

  B.呋塞米

  C.氫氯噻嗪

  D.氨苯蝶啶

  E.甘露醇

  學(xué)員提問(wèn):老師,請(qǐng)解釋?

  答案與解析:本題的正確答案是C。

  氫氯噻嗪不良反應(yīng):

  1.電解質(zhì)紊亂 如低血鉀、低血鎂、低氯堿血癥等。

  2.潴留現(xiàn)象 如高尿酸血癥、高鈣血癥,主要是藥物減少細(xì)胞外液容量,增加近曲小管對(duì)尿酸的再吸收所致,痛風(fēng)者慎用。

  【流行病學(xué)】相對(duì)危險(xiǎn)度(RR)是隊(duì)列研究中反映暴露與發(fā)病(死亡)關(guān)聯(lián)強(qiáng)度的指標(biāo),下列說(shuō)法哪一個(gè)是正確的

  A.RR95%可信區(qū)間(CI)的上限>1,認(rèn)為暴露與疾病呈“正”關(guān)聯(lián),即暴露因素是疾病的危險(xiǎn)因素

  B.RR95%CI的下限1,認(rèn)為暴露與疾病呈“負(fù)”關(guān)聯(lián),即暴露因素是保護(hù)因素

  D.RR95%CI包括1,則認(rèn)為暴露因素與疾病有統(tǒng)計(jì)學(xué)聯(lián)系

  E.RR95%CI包括1,則認(rèn)為暴露因素與疾病無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)聯(lián)系

  學(xué)員提問(wèn):老師謝謝您,請(qǐng)問(wèn)此題如何分析?

  答案與解析:本題的正確答案是E。

  

  由此可知RR95%CI包括1,則認(rèn)為暴露因素與疾病無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)聯(lián)系。

  【衛(wèi)生統(tǒng)計(jì)學(xué)】方差分析中有

  A.F值不會(huì)是負(fù)數(shù)

  B.F值不會(huì)小于1

  C.F值可以是負(fù)數(shù)

  D.組間MS不會(huì)小于組內(nèi)MS

  E.組間SS不會(huì)小于組內(nèi)SS

  學(xué)員提問(wèn):老師,請(qǐng)問(wèn)為什么?

  答案與解析:本題的答案是A。

  方差分析中計(jì)算的離均差平方和SS是正值,MS=SS/υ,而F=MS組間/MS組內(nèi),所以F值的取值范圍為0~+∝,MS組間與MS組內(nèi)沒(méi)有確定的大小關(guān)系。

  計(jì)算出統(tǒng)計(jì)量F值,以自由度υ組間與υ組內(nèi)查方差分析用的F界值表,找出Fα,根據(jù)計(jì)算出的F值與Fα相比較,如果F>Fα,則有p<α;如果F<Fα,則有p>α。作出統(tǒng)計(jì)推斷。

  【生理學(xué)】絕對(duì)不應(yīng)期出現(xiàn)在動(dòng)作電位的哪一時(shí)相:

  A.峰電位

  B.負(fù)后電位

  C.正后電位

  D.除極相

  E.恢復(fù)相

  學(xué)員提問(wèn):什么是峰電位?峰電位的離子基礎(chǔ)是什么?

  答案與解析:本題的正確答案是A。

  動(dòng)作電位全過(guò)程包括鋒電位和后電位兩大部分。鋒電位(spike potential)在刺激后幾乎立即出現(xiàn),其幅度為靜息電位與超射值之和,并服從全或無(wú)定律和非遞減性傳導(dǎo)。后電位(after potential):鋒電位過(guò)后即為歷時(shí)較長(zhǎng)的后電位:先為負(fù)后電位,歷時(shí)約15毫秒,其幅度約為鋒電位的5~6%,正后電位(positive after potential)其幅度僅為鋒電位的0.2%。

  鋒電位的離子基礎(chǔ)是鈉通道開(kāi)放,鈉離子的大量?jī)?nèi)流。

  【勞動(dòng)衛(wèi)生與職業(yè)病學(xué)】氮氧化物中毒的急性臨床表現(xiàn)主要是

  A.刺激呼吸道深部,引起咳嗽、咳痰

  B.致肺水腫

  C.引起呼吸道炎癥及肺炎

  D.迷走神經(jīng)反射性心跳驟停

  E.以上都不是

  學(xué)員提問(wèn):老師,為什么?謝謝

  答案與解析:本題的答案是C。

  氮氧化物急性吸入可致化學(xué)性氣管炎、化學(xué)性肺炎,嚴(yán)重時(shí)可致化學(xué)性肺水腫。

  刺激呼吸道深部,引起咳嗽、咳痰,是氣管炎和肺炎的具體表現(xiàn),可以出現(xiàn)在急性期,也可以出現(xiàn)在慢性期,而導(dǎo)致肺水腫是氮氧化物重度中毒的表現(xiàn)。

  根據(jù)最優(yōu)選項(xiàng)原則,所以本題的答案是C。

  09年公衛(wèi)執(zhí)業(yè)助理醫(yī)師《答疑周刊》第17期word文檔下載

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