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10月30日 19:00-21:00
詳情出分當(dāng)晚 19:00-21:00
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(一)釉柱(enamelrod)
1.細(xì)長的柱狀結(jié)構(gòu);
2.起自釉質(zhì)牙本質(zhì)界,貫穿釉質(zhì)全層,達(dá)牙的表面,釉柱彼此橫跨纏繞;
3.在窩溝處向窩溝底部集中,呈放射狀;
4.在近牙頸部,幾乎呈水平狀排列;
5.平均直徑4——6μm,釉柱的直徑在表面較深部的大;
6.釉柱的橫切面呈魚鱗狀;
7.一個(gè)釉柱尾部與相鄰釉柱頭部的兩組晶體相交呈參差不奇的間隙,稱之為釉柱間隙,并構(gòu)成釉柱頭部清晰的弧形邊界,即釉柱鞘。
(二)釉質(zhì)牙本質(zhì)界以及與釉質(zhì)最初形成時(shí)相關(guān)的結(jié)構(gòu)
1.釉質(zhì)牙本質(zhì)界(enamel-dentinaljunction):
釉質(zhì)和牙本質(zhì)的交界,是由許多小弧形線相連而成,其凹面向釉質(zhì)。
2.釉梭(enamelspindle):
是位于釉質(zhì)牙本質(zhì)界處的紡錘狀結(jié)構(gòu),牙尖部較多。
形成原因:
3.釉叢(enameltufts):
起自釉質(zhì)牙本質(zhì)界向牙表面散開的草叢狀結(jié)構(gòu),其高度約為釉質(zhì)厚度的1/5——1/4.形成原因:
4.釉板(enamellamellae):
是一薄層板狀裂隙,垂直于牙面,止于釉質(zhì)內(nèi)、釉質(zhì)牙本質(zhì)界或牙本質(zhì)內(nèi)。
形成原因:
5.無釉柱釉質(zhì)(rodlessenamel)
在近釉質(zhì)牙本質(zhì)界最先形成的釉質(zhì)和多數(shù)乳牙及恒牙表層約30μm厚的釉質(zhì)均看不到釉柱結(jié)構(gòu),稱為無釉柱釉質(zhì)。
形成原因:
(三)與釉質(zhì)周期性生長相關(guān)的結(jié)構(gòu)
1.橫紋((crossstriations)
是釉柱上與釉柱的長軸相垂直的細(xì)線,醫(yī)|學(xué)教育網(wǎng)搜集整理呈規(guī)律性重復(fù)分布,間隔2——6μm.形成原因:
2.生長線(incrementalline)
為釉質(zhì)發(fā)育的間隙線;呈深褐色;在縱磨片上,在牙尖部包繞牙尖環(huán)形排列,近牙頸部漸呈斜行線;在橫磨片上,呈同心圓狀排列。
牙面平行線(perikymata):釉質(zhì)生長線到達(dá)牙冠表面時(shí),形成橫行的嵴狀結(jié)構(gòu)。
新生線:在乳牙和第一恒磨牙的磨片上,??梢娨粭l加重的生長線即新生線。
(四)與釉質(zhì)排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)
1.絞釉(gnarledenamel):
釉柱的行程近表面1/3較直,內(nèi)2/3彎曲,在牙切緣及牙尖處絞繞彎曲明顯,稱絞釉;
2.施雷格線(Schregerline):
用落射光觀察牙縱向磨片時(shí),可見寬度不等的明暗相間帶,分布在釉質(zhì)厚度的內(nèi)4/5處,改變?nèi)肷涔饨嵌瓤墒姑靼祹Оl(fā)生改變。這些明暗帶稱為施雷格線。
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