牢牢掌握知識(shí)點(diǎn)是應(yīng)對(duì)無窮變化試題的制勝法寶，掌握知識(shí)點(diǎn)需要平時(shí)反復(fù)理解識(shí)記！關(guān)于“印模的分類和印模的分類——口腔助理醫(yī)師綜合筆試復(fù)習(xí)重中之重”，醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)編輯整理具體內(nèi)容如下：

印模的分類

1）根據(jù)取印模的次數(shù)分為一次印模法和二次印模法。一次印模法是用合適的成品托盤及用海藻酸印模材或熱塑性印模材一次完成工作印模的方法。二次印模法又稱聯(lián)合印模法，由初印模和終印模組成，是在患者口中制取兩次印模后完成工作印模的方法。

2）根據(jù)取印模時(shí)，患者張口或閉口分為開口式印模和閉口式印模。

3）根據(jù)取印模時(shí)是否對(duì)黏膜造成壓力分為黏膜靜止式印模和黏膜運(yùn)動(dòng)式印模技術(shù)。

印模的分類

1）使組織受壓均勻；

2）適當(dāng)擴(kuò)大印模面積；

3）采取功能性印模；

4）保持穩(wěn)定的位置。

模型全口義齒模型是灌注模型材料于無牙頜印模內(nèi)形成的無牙頜陽模。在全口義齒初印模上灌注石膏形成初模型，用來制作個(gè)別托盤。在全口義齒終印模上灌注石膏或人造石形成終模型（又稱工作模型）用來制作暫基托及全口義齒。模型灌注方法有圍模灌注法和一般灌注法兩種。

（1）工作模型的要求：模型邊緣側(cè)面厚度3mm，模型基底最薄處不能少于10mm。模型后緣應(yīng)在腭小凹后4mm，下頜模型在磨牙后墊自其前緣起不少于10mm。

（2）模型后堤區(qū)的處理：如果在取終印模時(shí)未做后堤區(qū)加壓完成邊緣修整者，可在工作模型上用刮除石膏的方法形成后堤區(qū)。在上頜石膏模型上的后顫動(dòng)線處，或腭小凹后2mm至兩側(cè)翼上頜切跡的連線處，用雕刻刀切一條V字形溝，此溝中間深度1——1.5mm，越近中線和翼上頜切跡處越淺。沿此溝向前約5mm的范圍內(nèi)，將石膏模型刮去一層，愈向前刮除得愈少，使與上腭的黏膜面移行。

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