為方便大家復(fù)習(xí)2020年口腔執(zhí)業(yè)醫(yī)師《口腔組織病理學(xué)》相關(guān)內(nèi)容，醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)編輯整理“口腔執(zhí)業(yè)醫(yī)師考試-牙釉質(zhì)組織結(jié)構(gòu)復(fù)習(xí)資料”相關(guān)資料如下：

（一）釉柱（enamelrod）

1.細(xì)長的柱狀結(jié)構(gòu)；

2.起自釉質(zhì)牙本質(zhì)界，貫穿釉質(zhì)全層，達(dá)牙的表面，釉柱彼此橫跨纏繞；

3.在窩溝處向窩溝底部集中，呈放射狀；

4.在近牙頸部，幾乎呈水平狀排列；

5.平均直徑4——6μm，釉柱的直徑在表面較深部的大；

6.釉柱的橫切面呈魚鱗狀；

7.一個釉柱尾部與相鄰釉柱頭部的兩組晶體相交呈參差不奇的間隙，稱之為釉柱間隙，并構(gòu)成釉柱頭部清晰的弧形邊界，即釉柱鞘。

（二）釉質(zhì)牙本質(zhì)界以及與釉質(zhì)最初形成時相關(guān)的結(jié)構(gòu)

1.釉質(zhì)牙本質(zhì)界（enamel-dentinaljunction）：

釉質(zhì)和牙本質(zhì)的交界，是由許多小弧形線相連而成，其凹面向釉質(zhì)。

2.釉梭（enamelspindle）：

是位于釉質(zhì)牙本質(zhì)界處的紡錘狀結(jié)構(gòu)，牙尖部較多。

形成原因：

3.釉叢（enameltufts）：

起自釉質(zhì)牙本質(zhì)界向牙表面散開的草叢狀結(jié)構(gòu)，其高度約為釉質(zhì)厚度的1/5——1/4.形成原因：

4.釉板（enamellamellae）：

是一薄層板狀裂隙，垂直于牙面，止于釉質(zhì)內(nèi)、釉質(zhì)牙本質(zhì)界或牙本質(zhì)內(nèi)。

形成原因：

5.無釉柱釉質(zhì)（rodlessenamel）

在近釉質(zhì)牙本質(zhì)界最先形成的釉質(zhì)和多數(shù)乳牙及恒牙表層約30μm厚的釉質(zhì)均看不到釉柱結(jié)構(gòu)，稱為無釉柱釉質(zhì)。

形成原因：

（三）與釉質(zhì)周期性生長相關(guān)的結(jié)構(gòu)

1.橫紋（（crossstriations）

是釉柱上與釉柱的長軸相垂直的細(xì)線，醫(yī)|學(xué)教育網(wǎng)搜集整理呈規(guī)律性重復(fù)分布，間隔2——6μm.形成原因：

2.生長線（incrementalline）

為釉質(zhì)發(fā)育的間隙線；呈深褐色；在縱磨片上，在牙尖部包繞牙尖環(huán)形排列，近牙頸部漸呈斜行線；在橫磨片上，呈同心圓狀排列。

牙面平行線（perikymata）：釉質(zhì)生長線到達(dá)牙冠表面時，形成橫行的嵴狀結(jié)構(gòu)。

新生線：在乳牙和第一恒磨牙的磨片上，?？梢娨粭l加重的生長線即新生線。

（四）與釉質(zhì)排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)

1.絞釉（gnarledenamel）：

釉柱的行程近表面1/3較直，內(nèi)2/3彎曲，在牙切緣及牙尖處絞繞彎曲明顯，稱絞釉；

2.施雷格線（Schregerline）：

用落射光觀察牙縱向磨片時，可見寬度不等的明暗相間帶，分布在釉質(zhì)厚度的內(nèi)4/5處，改變?nèi)肷涔饨嵌瓤墒姑靼祹Оl(fā)生改變。這些明暗帶稱為施雷格線。

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